日本放射光学会誌
Vol.7,No.3/Aug,1994

1.
     * 二次元分光法による超励起分子のダイナミックスの“烏瞰図”測定・・・・鵜飼正敏(p1)(14ページ、2,503k)

2.
     * 有機固体・薄膜のXAFS・・・・・・・・・関 一彦、荒木 暢、大内幸雄(p15)(18ページ、2,502k)

3.
 * 放射光励起Siガスソース分子線エピタキシーにおける表面反応素過程の「その場」観察・・・・高桑雄二、宮本信雄(p33)(23ページ、3,292k)
   
4.
*  “Workshop on Atomic Physics at High Brilliance Synchrotron Sources”に出席して・・・・大浦正樹、寺澤倫孝、粟谷容子(p56)(2ページ、535k)
     
5.
      * 第6回APSユーザーズ会議報告・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・原見太幹(p58)(2ページ、535k)

6.
      * 第12回関西XAFS研究会報告・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・久保園芳博(p60)(1ページ、230k)

7.
      * 坂本一之(p61)(2ページ、303k)
     
      * 木村 滋(p63)(3ページ、200k)

8.
     * 第8回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム開催要項(p64)(ページ,302k)

9. 放射光シンポジウム’94「放射光化学の最先端」 (p66)
   
10.
     * 放射光科学の発展のために−加速器屋さんを評議員に− ・・・・・・・安藤正海(p68)(3ページ、392k)

11. 日本放射光学会学会活動総合検討委員会報告(p71)(14ページ、1,973k)

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