日本放射光学会誌
Vol.7,No.3/Aug,1994
1.
     * 二次元分光法による超励起分子のダイナミックスの“烏瞰図”測定・・・・鵜飼正敏（p1）(14ページ、2,503k)

2.
     * 有機固体・薄膜のXAFS・・・・・・・・・関　一彦、荒木　暢、大内幸雄（p15）(18ページ、2,502k)

3.
 * 放射光励起Siガスソース分子線エピタキシーにおける表面反応素過程の「その場」観察・・・・高桑雄二、宮本信雄（p33）(23ページ、3,292k)
   
4.
*  “Workshop on Atomic Physics at High Brilliance Synchrotron Sources”に出席して・・・・大浦正樹、寺澤倫孝、粟谷容子（p56）(2ページ、535k)
     
5.
      * 第6回APSユーザーズ会議報告・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・原見太幹（p58）(2ページ、535k)

6.
      * 第12回関西XAFS研究会報告・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・久保園芳博（p60）(1ページ、230k)

7.
      * 坂本一之（p61）(2ページ、303k)
     
      * 木村　滋（p63）(3ページ、200k)

8.
     * 第8回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム開催要項(p64)(ページ,302k)

9. 放射光シンポジウム’94「放射光化学の最先端」 (p66)
   
10.
     * 放射光科学の発展のために−加速器屋さんを評議員に− ・・・・・・・安藤正海（p68）(3ページ、392k)

11. 日本放射光学会学会活動総合検討委員会報告（p71）(14ページ、1,973k)

-------------------------------------------------------------------------------------

*本会会告   *お知らせ  *日本学術会議だより No.33  *学科誌「放射光」投稿規程
*賛助会員名簿   *編集委員会・編集後記  *正会員入会手続き   *正会員入会申込書
*第8回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム発表申込書

戻る