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12
日 （金） |
9
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10
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11
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12
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13
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14
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15
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16
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17
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18
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19
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10:40~12:25
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13:30～15:00
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15:10～16:10
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16:20～17:50
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18:00～19:00
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19:00～20:00
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A会場
(200名) |
オーラル1A
( 回折・散乱 ) |
昼
食 |
企画 １
新マンモグラフィ開発 |
休憩
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総 会
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休憩
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奨励賞受賞講演
（3講演） |
休憩
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SPring-8
懇談会 |
KEK-PF懇談会
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B会場
(200名) |
オーラル1B
( VSX（固体）) |
企画 2
界面の世界に光 |
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C会場
(150名) |
オーラル1C
(VSX（原子分子）) |
企画 3
気体原子・分子内殻励起 |
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D会場
(150名) |
オーラル1D
( BL・装置/表面) |
企画 4
産業応用 |
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G会場
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評議会
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休 憩 室
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特別展示
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施設報告と企業展示準備
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13
日 （土） |
9
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10
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11
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12
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13
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14
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15
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16
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17
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18
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19
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20
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9:00～10:30
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10:40～12：40
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13:30～15:30
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15:50～17:30
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18:15～20:45
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A会場
(200名) |
企画 5
コヒーレント光 発生技術 |
特別企画
(10:40～12:10) |
昼
食 |
市民公開講座
（会場：ヒマワリ） |
特別講演
（会場：ヒマワリ） |
懇親会
広島厚生年金会館 |
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B会場
(200名) |
企画 6
内殻磁気光学 |
UVSOR懇談会
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VSX懇談会
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C会場
(150名) |
企画 7
タンパク質構造解析 |
ポスター
セッションⅠ （ポスター会場） |
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D会場
(150名) |
企画 8
高分子・ ソフトマテリアル |
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G会場
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休 憩 室
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特別展示
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施設報告と企業展示
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14
日 （日） |
9
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10
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11
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12
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13
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14
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15
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16
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9:00～10:30
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10:40～12:25
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13:30～15:30
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C会場
(150名) |
オーラル2C
(加速器・光源) |
休
憩 |
オーラル3C
( 回折・散乱) |
昼
食 |
ポスター
セッションⅡ （ポスター会場） |
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D会場
(150名) |
オーラル2D
(ｲﾒｰｼﾞﾝｸﾞ) |
オーラル3D
( イメージング) |
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E会場
(100名) |
オーラル2E
( X分光・XAFS) |
オーラル3E
( VSX（表面）) |
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F会場
(100名) |
オーラル2F
( 赤外/生物) |
オーラル3F
( VSX固体) |
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G会場
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休 憩 室
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15：00-17：00 「顕微ナノ材料科学」研究会 |
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特別展示
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施設報告と企業展示
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